等離子體面壁材料侵蝕和雜質(zhì)輸運(yùn)是當(dāng)前核聚變等離子體研究的關(guān)鍵問題之一。在聚變裝置中面向等離子體材料/部件在高熱負(fù)荷和強(qiáng)粒子流轟擊下,導(dǎo)致等離子體面壁材料侵蝕加劇,產(chǎn)生的雜質(zhì)輸運(yùn)會(huì)污染背景等離子體,破壞等離子體約束性能,這將極大地限制偏濾器靶板服役壽命和聚變裝置穩(wěn)態(tài)運(yùn)行。報(bào)告將圍繞邊界等離子體輸運(yùn)、鎢雜質(zhì)侵蝕、邊界鎢雜質(zhì)屏蔽和芯部鎢雜質(zhì)聚芯等當(dāng)前亟待解決的物理問題,介紹圍繞EAST、JET、LHD和CFETR等裝置開展的相關(guān)數(shù)值模擬研究工作。